日本先進(jìn)邏輯半導體制造商 Rapidus 宣布，其購入的首臺 ASML TWINSCAN NXE:3800E 光刻機已于當地時(shí)間昨日在其北海道千歲市 IIM-1 晶圓廠(chǎng)完成交付并啟動(dòng)安裝。這也是日本境內首次引入量產(chǎn)用 EUV 光刻設備。
Rapidus 首席執行官、日本政府代表、北海道及千歲市地方政府代表、ASML 高管、荷蘭駐日本大使等相關(guān)人士出席了在北海道新千歲機場(chǎng)舉行的紀念儀式。
NXE:3800E 是 ASML EXE 系列 0.33 (Low) NA EUV 光刻機的最新型號，能滿(mǎn)足 Rapidus 首代量產(chǎn)工藝 2nm 的制造需求。該光刻機與 0.55 (High) NA EXE 平臺共享部分組件，晶圓吞吐量較前款 NXE:3600D 提升 37.5%。
除核心的 EUV 光刻機外，Rapidus 還將在 IIM-1 晶圓廠(chǎng)安裝一系列配套先進(jìn)半導體制造設備以及全自動(dòng)材料處理系統，以實(shí)現 2nmz 制程 GAA（IT之家備注：全環(huán)繞柵極）結構半導體的生產(chǎn)。
Rapidus 再次確認 IIM-1 晶圓廠(chǎng)將于 2025 年 4 月啟動(dòng)試產(chǎn)，且該晶圓廠(chǎng)所有半導體制造設備均將采用單晶圓工藝，Rapidus 將在該模式下構建名為 RUMS（快速和統一制造服務(wù)）的新型半導體代工模式。
