ASML發(fā)言人表示，盡管出口限制從9月份開(kāi)始實(shí)施，但該公司在年底前獲得了向中國出口受限芯片制造設備的許可證。
據彭博社8月31日報道，美國限制向中國出口尖端技術(shù)的努力，損害了ASML的利益，中國是ASML的第三大市場(chǎng)。美國政府曾敦促荷蘭政府阻止ASML在沒(méi)有許可證的情況下向中國出口浸入式DUV光刻機，新限制于9月1日正式生效。
ASML發(fā)言人表示：從9月開(kāi)始的四個(gè)月期限是為了讓ASML能夠履行與中國客戶(hù)的合同義務(wù)。但預計不會(huì )獲得新出口許可證，從1月份開(kāi)始向中國出口三款先進(jìn)的浸入式深紫外光刻機（DUV）。
據悉，今年6月末荷蘭發(fā)布新出口管制措施，規定半導體廠(chǎng)商在出口一些先進(jìn)的深紫外光刻（DUV）系統時(shí)申請出口許可證。知情人士稱(chēng)，在新規定生效之前，中國芯片制造商一直在爭相收購重要設備。海關(guān)數據顯示，今年到目前中國從荷蘭進(jìn)口的此類(lèi)設備已經(jīng)超過(guò)了2022年全年的總量。
這些規定涵蓋了一小部分用于芯片制造工藝的極其先進(jìn)的設備，包括浸潤式深紫外（DUV）光刻和原子層沉積（ALD）設備。ASML曾表示，其最先進(jìn)的DUV設備屬于新規定的范圍，但其主流DUV設備不屬于新規定的范圍。自2019年以來(lái)，該公司已被禁止向中國出口其更先進(jìn)的EUV（極紫外線(xiàn)）光刻機。
